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簡要描述:韓國電鍍膜厚檢測儀精度高我公司銷售產(chǎn)品包括X射線熒光光譜儀(含能量色散和波長色散型)(XRF)、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP)、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS) 、原子熒光光譜儀(AFS)、原子吸收分光光度計(jì)(AAS)、光電直讀光譜儀(OES)、氣相色譜儀(GC)、氣相質(zhì)譜儀(GC-MS)、液相色譜儀(LC)、液相質(zhì)譜儀(LC-MS)、能譜儀(EDS)、高頻紅外碳硫分析儀(CS)等等
詳細(xì)介紹
韓國電鍍膜厚檢測儀精度高
應(yīng)用領(lǐng)域
分析各種電鍍鍍層厚度
鍍層檢測:
2.1、常見金屬鍍層有:
鍍層 基體 | Ni | Ni-P | Ti | Cu | Sn | Sn-Pb | Zn | Cr | Au | Zn-Ni | Ag | Pd | Rh |
Al | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
Cu | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
Zn | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
Fe | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
SUS | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
2.2、單層厚度范圍:
金鍍層0-8um,
鉻鍍層0-15um,
其余一般為0-30um以內(nèi),
可最小測量達(dá)0.001um。
2.3、多層厚度范圍
Au/Ni/Cu : Au分析厚度:0-8um Ni分析厚度:0-30um
Sn/Ni/Cu: Sn分析厚度:0-30um Ni分析厚度:0-30um
Cr/Ni/Fe: Cr分析厚度0-15um Ni分析厚度:0-30um
2.4、鍍層層數(shù)為1-6層
2.5、鍍層精度相對(duì)差值一般<5%。
2.6、鍍層成分含量:Sn-Pb合金成分分析;Zn-Ni合金成分分析。
單層分析精度,以Ni舉例:(相對(duì)差值)
Ni層厚度(um) | 保證精度 |
<1.0um | <5% |
1.0-5.0um | <3% |
5.0-10um | <3% |
10-20um | <3% |
>20.0um | <3% |
技術(shù)指標(biāo)
多鍍層分析,1~5層;
測試精度:0.001 μm;
元素分析范圍從鋁(Al)到鈾(U);
測量時(shí)間:10~30秒;
SDD探測器,能量分辨率為125±5eV;
探測器Be窗0.5mil(12.7μm);
微焦X射線管50kV/1mA,鉬,銠靶(高配微焦鉬靶);
6個(gè)準(zhǔn)直器及多個(gè)濾光片自動(dòng)切換;
高清CCD攝像頭(200萬像素),準(zhǔn)確監(jiān)控位置;
多變量非線性去卷積曲線擬合;
高性能FP/MLSQ分析;
儀器尺寸:450×520×385mm。
圖譜界面
軟件支持無標(biāo)樣分析;
寬大分析平臺(tái)和樣品腔;
集成了鍍層分析界面和合金成份分析界面;
采用多種光譜擬合分析處理技術(shù);
鍍層測厚分析可達(dá)到0.001μm。
分析報(bào)告結(jié)果
直接打印分析報(bào)告;
報(bào)告可轉(zhuǎn)換為PDF,EXCEL格式。
韓國電鍍膜厚檢測儀精度高
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