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OES光電直讀光譜檢驗(yàn)儀器

簡(jiǎn)要描述:OES光電直讀光譜檢驗(yàn)儀器
通過系統(tǒng)自帶數(shù)據(jù)庫進(jìn)行存儲(chǔ)數(shù)據(jù)可存儲(chǔ)為多種數(shù)據(jù)格式
數(shù)據(jù)可存儲(chǔ)為單次測(cè)量數(shù)據(jù),和/或多次測(cè)試數(shù)據(jù)之平均值可存儲(chǔ)統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)
可人工或自動(dòng)進(jìn)行存儲(chǔ)數(shù)據(jù)的轉(zhuǎn)存
可打印單次測(cè)量數(shù)據(jù),和/或多次測(cè)試數(shù)據(jù)之平均值可打印統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)
可人工或自動(dòng)打印所有的存儲(chǔ)數(shù)據(jù)

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-11-07
  • 訪  問  量:1719

詳細(xì)介紹

OES光電直讀光譜檢驗(yàn)儀器

檢測(cè)鋼鐵元素成分含量(含各種合金,不銹鋼等),精度更高穩(wěn)定性更好的是實(shí)驗(yàn)室使用的專業(yè)測(cè)試鋼材成分設(shè)備的OES光電直讀光譜儀,介紹如下:

OES光譜儀可應(yīng)用于固體金屬樣品的元素定量分析及牌號(hào)鑒定。光學(xué)系統(tǒng)采用 CCD 測(cè)器,光譜范圍覆蓋全部典型材料。儀器裝備有開放式氬氣沖洗火花臺(tái)設(shè)計(jì),適合不同形狀和尺寸的樣品分析。

OES光譜儀技術(shù)參數(shù)光譜儀光學(xué)系統(tǒng)

帕邢-龍格結(jié)構(gòu),羅蘭圓光學(xué)系統(tǒng)

光柵焦距:400mm

波長范圍:130–800 nm、160–800 nm、200–800 nm 三種規(guī)格

探測(cè)器:多塊高性能線陣 CCD

光室溫度:自動(dòng)控制恒溫:34℃±0.5℃

像素分辨率:30pm

光柵刻線:3600 l/mm

一級(jí)光譜線色散率:1.2 nm/mm

外部入射窗口,方便清洗及更換

漂移校正功能-得益于自動(dòng)尋峰功能(精確度達(dá)到 0.1 像素

紫外波段靈敏度,得益于全新改良的真空技術(shù)數(shù)字等離子發(fā)生器

全數(shù)字等離子火花光源技術(shù)

高效得益于緊湊的設(shè)計(jì)和半導(dǎo)體控制技術(shù)

高能預(yù)燃技術(shù) (HEPS)

激發(fā)參數(shù)可通過用戶界面由用戶根據(jù)實(shí)際需求自定義進(jìn)行設(shè)置

頻率 100–1000Hz

電流 1-80A

優(yōu)化的樣品臺(tái)

開放式樣品臺(tái)設(shè)計(jì),滿足大樣品測(cè)試要求

4mm 樣品臺(tái)分析間隙

“噴射電極"技術(shù)輕松應(yīng)對(duì)小樣品及復(fù)雜幾何形狀樣品

低氬氣消耗,待機(jī)時(shí):無須待機(jī)流量

定制異性樣品適配器

不同基體無須更換火花臺(tái)

優(yōu)化的雜質(zhì)排出系統(tǒng)

牢固的銅制樣品臺(tái)散熱效果計(jì)算機(jī)及讀出系統(tǒng)

品牌電腦

處理器:AMD 雙核 64X2 5200+

片:AMD 690G + AMD SB600

內(nèi) 存:1GB DDR 2

盤:>250 GB

驅(qū):DVD

顯示器:19 寸液晶顯示器數(shù)據(jù)輸出

數(shù)據(jù)以多種數(shù)據(jù)形式存儲(chǔ)

可接駁各種標(biāo)準(zhǔn)打印設(shè)備

數(shù)據(jù)可通過互聯(lián)網(wǎng)遠(yuǎn)程發(fā)送傳輸軟件系統(tǒng)

Windows 7 操作系統(tǒng)

中文或英文光譜儀操作軟件   可選數(shù)據(jù)維護(hù)程序

電源要求:

AC220 V /50 Hz

最大功率 880 W (主機(jī) 350W,真空泵 500W,電腦 30W)

平均功率 600 W(主機(jī) 350W,真空泵 500W,電腦 30W)

待機(jī)功率 60W

16 A 慢熔保險(xiǎn)絲氬氣要求:

純氬氣, 99.999%; 氬氣減壓閥(專配減壓閥)

氣壓>4MPa; 出口儀器氣壓 0.5MPa

銅管傳輸

OES光電直讀光譜檢驗(yàn)儀器

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